中國EUV原型機突破引發行業辯論，ASML持懷疑態度
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btccSquare新聞：中國據報開發出極紫外光刻（EUV）原型機，引發行業猜測。 ASML執行長Christophe Fouquet對此表示懷疑，稱未見中國達到此技術水平的證據，並指出由於自2016年起EUV設備受限，中國仍「落後8個世代」。 該項目被比作半導體界的「曼哈頓計劃」，反映北京在晶片戰升級背景下，力圖減少對西方技術的依賴。
儘管ASML淡化中國的EUV能力，分析師指出中國在成熟製程晶片領域確有進展——透過大量投資，中國企業在此領域「正取得實質進步」。 地緣政治風險顯而易見：Fouquet承認，若技術差距持續擴大，可能觸發全面脫鉤。 目前，EUV競賽仍是一場馬拉松，而非短跑——ASML估計中國要具備競爭力仍需約10年時間。
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