中芯國際測試首台國產DUV光刻機
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btccSquare快訊：中國最大晶圓代工廠中芯國際正在測試由上海微影技術研發的首台國產深紫外光（DUV）光刻機。 此舉旨在應對歐美持續出口管制，降低對西方半導體設備的依賴。外國分析師評估該技術落後ASML業界領先系統約17年。 原型機類似ASML 2008年推出的Twinscan NXT 1950i，可實現28奈米晶片生產，並透過多重曝光技術潛在達成7奈米或5奈米製程。 雖然多數組件已實現國產化，關鍵元件仍需進口。
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