美國MATCH法案劍指中國晶片取得管道，可能重塑科技競爭格局

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發佈時間:

2026-04-04 22:03:13

BTCCSquare新聞：

美國國會議員提出《MATCH法案》，這是一項旨在限制中國取得先進半導體製造設備的立法行動。該法案特別針對浸潤式深紫外光（DUV）微影設備－這是晶片生產的關鍵工具，中國主要從ASML和日本供應商採購。

這標誌著從先前白宮主導的出口管制轉向，國會現在直接挑戰中國的技術進步。該立法旨在彌補現有法規漏洞，確保美國及其盟友在下一代晶片製造領域的主導地位。

雖然未直接提及加密貨幣，但此類地緣政治技術限制可能間接影響中國的區塊鏈基礎設施發展和挖礦硬件供應鏈——歷史上中國一直是這兩個領域的主要樞紐。

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