ASML技術突破 預計2030年前將晶片產能提升50%
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btccSquare新聞：
ASML已開發出一種方法，可大幅提升其極紫外光（EUV）微影設備的光源功率，預計到2030年可能將晶片產能提高50%。 這家荷蘭公司——作為這些關鍵半導體設備的唯一製造商——通過將EUV光源功率提升至1,000瓦實現了此突破，使晶圓產出更高且不影響穩定性。
「這不是臨時演示，」首席技術長Michael Purvis表示。 「我們已創建了一個能持續提供1,000瓦功率，同時滿足所有客戶需求的系統。」此項進展直接惠及如台積電和英特爾等依賴ASML EUV技術生產尖端運算晶片的代工廠。
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