中國EUV原型機引發半導體行業熱議，技術自主化進程受關注
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btccSquare 新聞：中國據稱透過逆向工程開發EUV光刻機原型，已在半導體領域引發廣泛討論。 報導指出北京招募前ASML工程師複製這項先進晶片製造技術，但專家對該專案的可行性仍持懷疑態度。
荷蘭分析師強調ASML的EUV系統極其複雜，依賴卡爾蔡司光學等專業元件及跨國供應鏈。 商業化時間表是另一大障礙——ASML耗時18年才使其技術成熟，暗示中國將面臨漫長的發展道路。
此情況凸顯全球科技競爭日益緊張，各國爭奪半導體主權之際，儘管原型機存在與否尚未證實，其可能顛覆ASML市場主導地位的潛力，已引起產業觀察家與政策制定者的高度關注。
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