中國秘密EUV原型機問世 半導體自主之路邁進關鍵一步
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btccSquare 新聞：中國已在深圳低調組裝完成極紫外光（EUV）微影設備原型機，透過吸納前ASML工程師加速其半導體雄心。 這台龐大裝置佔據整個廠房空間，已於2025年初實現「首次曝光」，目前正進行測試，但距離生產功能性晶片仍需數年時間。
該項目基於對ASML藍圖的逆向工程，並透過次級市場採購關鍵組件，體現了北京為期六年推動晶片製造自給自足的戰略。 在出口管制限制中國取得荷蘭製EUV系統（目前唯一能生產尖端半導體的設備）後，習近平主席將此計劃列為優先事項。
儘管ASML執行長公開質疑中國短期內實現突破的可能性，但此原型機顯示其進展速度超出預期。 雖然光學元件與精密零件短缺問題依然存在，但工程團隊目標在2028年前生產出可運作的晶片——產業觀察家認為，以目前的良率來看，此時程表相當樂觀。
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