中芯測試首款國產DUV曝光機 專家：擁有原型和量產是兩碼事

中芯國際正在測試首台國產先進晶片製造設備深紫外線 （DUV） 曝光機。（示意圖，取自網路）

吳孟峰／核稿編輯

〔財經頻道／綜合報導〕中國領先的晶片生產商中芯國際正在測試首台國產先進晶片製造設備深紫外線 （DUV） 曝光機，希望在人工智慧處理器生產領域挑戰西方競爭對手，並試圖突破無法獲得荷蘭艾斯摩爾（ASML）生產設備的限制。

英國金融時報報導，兩位知情人士透露，中芯國際正測試由上海新創公司宇量昇科技生產的深紫外線 （DUV）曝光機。能夠生產先進的DUV機器，將代表中國在突破美國晶片出口管制、減少對西方技術的依賴、提高先進AI處理器生產能力方面取得重大勝利。

研究機構伯恩斯坦（Bernstein）半導體分析師林清源（Lin Qingyuan，音譯）表示：「如果成功，這將代表中國企業邁出了重要一步，他們可以在此基礎上開發更先進的機械。」

但林清源也指出：「擁有曝光機原型是一回事，將其投入量產並與ASML競爭又是另一回事」；「這可能還需要幾年時間。」

中國的DUV技術研發仍面臨諸多挑戰。知情人士表示，雖然宇量昇科技的機器大部分零件都是國產，但也有一些零件來自國外。但他們補充說，該公司正在努力盡快實現所有零件的國產化。

一位知情人士表示，雖然中芯國際試驗的早期結果令人鼓舞，但目前仍不清楚該機器是否以及何時可以用於大規模晶片生產。新的DUV工具通常需要至少1年的時間進行多次調整才能達到穩定性和產量。

知情人士稱，正在測試的機器採用所謂的浸沒技術，類似於ASML採用的技術。

迄今為止，中芯國際和中國晶片製造商一直依賴荷蘭領先的先進設備製造商ASML生產的設備，但近年來，由於美國出口管制，新設備的取得受到限制。中國晶片設備製造商上海微電子裝備有限公司生產的DUV微影機則相對落後。

中國仍缺乏最先進的晶片製造工具極紫外曝光機（EUV），這種設備曾用於為輝達等公司製造最尖端的晶片。ASML被禁止向中國出售EUV設備。

據兩位知情人士透露，中芯國際正在測試一台國產的28奈米DUV曝光機，並將利用所謂的「多重曝光技術」生產7奈米晶片。在行業術語中，「奈米」指的是每一代晶片的更新換代，而不是半導體的物理尺寸。

中芯國際正在試驗的機器也可能用於生產5奈米處理器，但產量較低，但無法生產更先進的產品。相較之下，台積電將於今年稍後開始使用ASML最新的EUV設備量產尖端2奈米晶片。