台積電前工程師陳力銘（左）、戈一平（中）、吳秉駿（右）。（資料照）

〔記者王定傳／台北報導〕台積電離職工程師陳力銘與台積電工程師吳秉駿、戈一平3人涉嫌洩漏台積電2奈米製程機密，高檢署去年8月依違反國安法起訴，經持續追查發現，另1工程師陳韋傑亦涉案，且東京威力高階主管盧怡尹曾於案發後刪除資料涉滅證，東京威力亦有未善盡監督、防止之責，均予追加起訴，智慧財產及商業法院今（27）日依違反國安法判處陳力銘10年。

吳秉駿3年、戈一平2年、陳韋傑6年、盧怡尹10月，緩刑3年，並向公庫支付100萬元，並接受法治教育6場次、東京威力罰金1.5億元，緩刑3年，並向台積電支付1億元另向公庫支付5000萬元。

檢調查出，東京威力是台積電其他製程蝕刻機供應商，為了切入2奈米製程，以測試方式尋求蝕刻機站點供應資格，未料2024年底最終測試沒過關而「掉單」；從台積電跳槽至東京威力行銷及產品經理的陳力銘，從2023年八月起至去年5月，找上過往同事吳秉駿、戈一平幫忙，約對方在台積電外部會議室、餐廳及吳、戈住處見面，並說服兩人打開公司配發的筆電登入系統，讓他持手機翻拍製程或實驗結果等機密。

據了解，陳之所以「走偏鋒」，起初可能是害怕「掉單」，改善機台表現良率、希望通過測試等原因，2024年「掉單」後，可能是為了爭取最先進製程供應機會，其中，吳共讓陳拍資料3次、戈1次，陳事後將部分機密輸入工作日誌回報東京威力。

檢方對陳求刑14年、吳9年、戈4年，去年12月追加起訴東京威力並建請法院科處1.2億元罰金。

檢調另發現，陳韋傑曾直接拍攝、重製資料傳給陳力銘，總共約12張資料，陳力銘上傳至公司的雲端硬碟中，盧怡尹於案發後刪除資料，檢方今年1月間追加起訴2人，並對陳力銘再求刑7年、陳韋傑求刑8年8月、盧怡尹求刑1年，並再對東京威力求處罰金2500萬元。