中國拼出EUV原型機彎道超車？荷媒最狠打臉文來了

荷蘭半導體設備巨擘ASML的EUV目前並沒有對手。（路透）

〔財經頻道／綜合報導〕中國傳出突破技術門檻打造出EUV原型機，被視為中國版「曼哈頓計畫」，引起業界關注。由於中國未能取得德商蔡司（CARl Zeiss）的光學系統，這是無法動搖半導體設備巨擘ASML（艾司摩爾） EUV的關鍵原因。荷媒強調，ASML 的秘密武器就是蔡司的鏡子，蔡司是 ASML 光學系統的唯一供應商。現今市面上所有新款手機與電腦設備中最強大的晶片，毫無例外都是由 ASML 的設備生產，這些設備若缺乏蔡司的光學技術，根本無法運作。

荷蘭《電訊報》（De Telegraaf）報導，在德國南部的小鎮奧伯科亨（Oberkochen），隱藏著荷蘭半導體設備巨頭 ASML 能在未來幾年維持霸權地位的最重要籌碼，那就是與光學專家蔡司（Carl Zeiss AG）的深度合作。在追求效率的荷蘭人催促下，德國人正不斷挑戰物理學極限，投入一場研發更精微技術、打造更強大晶片的全球競賽。

報導說，這座僅有約 8000 名居民的小鎮，實際上掌控了全球電腦運算力進化的節奏。蔡司公司是 ASML 光學系統的唯一供應商。現今市面上所有新款手機與電腦設備中最強大的晶片，毫無例外都是由 ASML 的設備生產，而這些設備若缺乏蔡司的光學技術，根本無法運作。

為了製造先進晶片，最先進的 ASML 曝光機使用了波長僅 13.5 奈米的極紫外光（EUV）。儘管中國此前宣稱已成功複製 ASML 的 EUV，打造出EUV原型機，但光學系統依然是中國最難以跨越的障礙。

蔡司半導體光學元件製造總裁亨舍（Christoph Hensche）指出：「ASML 的設備能將晶片圖案縮小到什麼程度，很大程度上取決於光學系統提升解析度的能力。這意味著，我們的反射鏡就是整個系統的心臟。」

在蔡司總部的展示櫃中，一個 EUV 反射鏡樣本看起來平凡無奇。然而，它的物理精度比一般浴室鏡子高出 5萬倍。在實際的 ASML 設備中，包含多面這類反射鏡，其中最大的一面直徑達 1.2 公尺，重量達 400 公斤。

亨舍生動地描述這種極致精度，他說，「這意味著，我們能透過這面反射鏡，利用雷射光精準擊中月球上的一顆高爾夫球。」

報導提及，蔡司與 ASML 的戰友關係始於 1980 年代，當時 ASML 剛從飛利浦（PhilIPs）獨立。1990 年代，當 ASML 決定投入數億歐元於當時商業前景不明的 EUV 技術時，蔡司也義無反顧地加入。

亨舍回憶：「我們共同經歷了許多艱難時刻，特別是 2008 年金融海嘯前後，但我們總能找到解決方案。」他認為，德國式的「嚴謹」與 ASML 「務實」的文化互補得很好。他強調，「ASML 天生更願意承擔風險，而我們則傾向深入分析、穩紮穩打。但我們最終還是選擇共同冒險，因為雙方都知道，產品必須在正確的時間推向市場，通常是愈快愈好。」

為了鞏固這段關係，ASML 於 2016 年斥資 10 億歐元收購了蔡司半導體業務24.9% 的股份。目前 ASML 第二代 EUV 曝光機的核心改進，便仰賴蔡司技術的持續突破，特別是提升光學系統的數值孔徑（NA）。

雖然下一代技術「HyPEr-NA」已在規劃中，但亨舍強調，光學系統的改良並非全部。ASML 在光源、組件精度與系統設計上同樣投入巨大努力。

對於「ASML 離不開蔡司，但蔡司理論上可以離開 ASML」的觀點，亨舍坦言理論上雖然成立，但蔡司並不想離開 ASML。他強調，雙方非常珍惜這段長期的合作夥伴關係，以及共同創造的商業奇蹟。