【晶片大戰】英特爾測試中國設備用於14A製程引爭議 直接挑戰美國補貼政策

• 英特爾為何冒險採用中國設備？
• 美國補貼政策的兩難
• 中國設備商的技術突破
• 全球半導體設備市場版圖
• 【編輯觀點】

英特爾近期被爆出在下一代14A(1.4奈米)製程研發中，使用中國供應商ACM ReseARch的濕法蝕刻設備進行測試，此舉可能違反美國《晶片與科學法案》的補貼規定，引發業界熱議。

英特爾為何冒險採用中國設備？

據業內消息，英特爾計劃在2027年量產的14A製程中，可能採用中國ACM ReSearch的濕法蝕刻設備。這家總部位於上海的公司，其技術據稱能降低20-30%的生產成本，但這也讓英特爾面臨失去美國政府補助的風險。

美國補貼政策的兩難

美國國家安全委員會(NSC)發言人Chris McGuire表示，政府正在密切關注此事。根據《晶片與科學法案》，接受補助的企業需限制與中國的技術合作。但業界分析師指出，完全排除中國供應鏈可能導致成本大幅上升，延緩美國半導體產業的復興進程。

中國設備商的技術突破

ACM Research聲稱其「分離式隔離(bifurcated and iSOLated)」技術能有效提升蝕刻精度。該公司2024年營收預計將增長41%，顯示其技術已獲得多家國際大廠認可。不過，TechInsights分析指出，中國設備在尖端製程的穩定性仍落後領先廠商20-30%。

全球半導體設備市場版圖

目前蝕刻設備市場仍由美國Lam Research(市佔率50%)和日本東京電子(38%)主導。但中國本土廠商如北方華創(NAURA)和中微公司(AMEC)正快速崛起，預計到2027年將佔據31%的國內市場。

【編輯觀點】

這場爭議凸顯全球半導體產業的複雜地緣政治格局。英特爾面臨技術自主與成本控制的兩難，而美國政府則需在國家安全與產業競爭力間取得平衡。未來幾年，14A製程的發展將成為觀察這場科技冷戰的重要指標。