TSMC iniciará produção em massa com máquinas de litografia EUV de alta abertura numérica da ASML em 2030
Em 8 de setembro, a TSMC anunciou que, a partir de 2030, adotará uma nova máquina de litografia de ultravioleta extremo (EUV) de "alta abertura numérica" fabricada pela ASML, dos Países Baixos, para produção em massa. Ambas as partes também afirmaram que realizarão melhorias em toda a indústria nas máquinas de alta abertura numérica. A ASML detém o monopólio do fornecimento de máquinas de litografia EUV usadas para formar circuitos ultrafinos em escala nanométrica e começará a enviar máquinas de alta abertura numérica capazes de desenhar circuitos mais finos a partir de dezembro de 2023. A Intel já introduziu máquinas de alta abertura numérica, enquanto a TSMC adiou anteriormente a produção em massa devido a custos elevados e outros motivos. A TSMC e a ASML lançarão um projeto em toda a indústria para ampliar a fotomáscara, que serve como padrão original do circuito, do atual quadrado de 6 polegadas (aproximadamente 15 centímetros) para um quadrado de 12 polegadas, e desenvolver máquinas de alta abertura numérica e componentes relacionados correspondentes às máscaras grandes. Está planejado estabelecer uma linha piloto de produção de máscaras grandes antes de 2031, e espera-se que as máquinas de alta abertura numérica correspondentes às máscaras grandes atinjam um estado adequado para produção avançada de semicondutores antes de 2033. Os principais fabricantes de semicondutores e empresas de máscaras manifestaram interesse em participar. As máquinas de alta abertura numérica podem desenhar circuitos mais finos, mas a área que pode ser desenhada em uma única exposição é reduzida para metade da dos modelos tradicionais, exigindo múltiplas exposições para circuitos de chips grandes, o que complica o processo e aumenta os custos. Ampliar a fotomáscara pode expandir a área de exposição e reduzir custos. O presidente e CEO da TSMC, C. C. Wei, afirmou que a empresa reunirá conhecimentos de toda a indústria para promover continuamente a inovação tecnológica que torna a tecnologia avançada amplamente utilizável e transmitir seus benefícios.
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